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BOB半岛ASML的故事:从飞利浦弃儿到光刻之王

发布时间:2024-01-09 20:33:10人气:

  即日,荷兰光刻机巨头ASML发布:其联席总裁兼首席推行官皮特·温宁克 (PeterWennink)及联席总裁兼首席工夫官马丁·范登布林克(Mar-tinvandenBrink)将于 2024年4月24日退息。现任首席商务官兼拘束委员会成员克里斯托弗·富凯(ChristopheFouquet)将恐怕会成为公司的下一任总裁兼 CEO——当然,这还须要过程2024年4月24日的年度股东大会的最终答应。

  温宁克和范登布林克从2013年接任ASML的总裁,至今仍旧十年。这十年,是ASML设置以还最灿烂的十年。正在这个时候点上,回首一下这家公司从几近停业的幼公司滋长为业界巨头的流程,口舌常蓄意旨的。

  要讲ASML的故事,咱们有须要先花点篇幅来先容少少与光刻工夫及光刻机相干的靠山学问。

  厉刻来说,咱们将这项工夫称为“光刻”是有误导性的。它并不是像许多人联思的那样用激光正在硅片上刻图,而更像是一种拍照曝光和印刷工夫的组合。

  光刻的英文是Photolithography,从构词上容易看出,这个词脱胎于Lithography,即“石版印刷术”。

  “石版印刷术”的合键之处正在于用化学的门径正在要画的图案上涂上油墨,而让其他地方依旧空缺。与之似乎的,光刻的合键则正在于用化学的门径保存硅片中须要的个人,而去掉其他的个人BOB半岛。所分歧的是,正在“石版印刷术”中,人们用的是油脂、树胶和水来告终这一点,而正在光刻流程中,人们则是通过光和光刻胶来告终。

  民多清楚,芯片的造造流程很大水准上是一个正在硅片上镌刻出纷乱电途的流程。模仿石版印刷的思绪,能够先正在硅片上画上思要的图案,并将它保存下来。为了到达这一点,咱们须要先正在硅片上涂上一层含有光致敏剂的光刻胶。然后再借用光学工夫将带电途图的掩膜(mask)按比例缩幼后投射到硅片上。正在光照到的地方,光刻胶就会出现变更,造成一道珍爱层。正在过程曝光之后,就能够用含氯或氟的气体对硅片举行蚀刻(Etching)。如许,有珍爱层的地方的硅就会保存下来,而其余个人的硅则会被腐蚀掉,咱们须要的电途就被刻到了硅片上。

  从汗青上看,光刻工夫映现的时候比芯片还要早。1955年,贝尔实习室的科学家卡尔·弗洛希(CarlFrosch)和林肯·德里克(LincolnDerick)察觉了一种对硅扩散举行皮相珍爱和抉择性屏障的工夫。这种工夫正在硅的皮相天生固结态的氧化膜,并正在其上面蚀刻出窗口图形。如许BOB半岛,杂质原子就只可够从窗口扩散到硅衬底中去,而笼盖了氧化膜的硅则会被珍爱起来。1957年,物理学家杰伊·拉特罗普(JayLathrop)和詹姆斯·纳尔(JamesNall)通过改造的显微镜反射后光树胶,得以将纷乱的电途图缩幼投射到硅片上。正在公布合于这项工夫的论文时,拉特罗普和纳尔将它定名为Photolithography——很彰着,正在定名时,他们用心将这种工夫和迂腐的石版印刷工夫举行了类比。蓄趣味的是,其后拉特罗普曾以为这个名字用得并不适宜,由于真相上正在加工流程中起效力的是“蚀刻”而非印刷,但这个名字是如斯圆活而深刻人心,所往其后连续被沿用了下来。

  跟着半导体财富的振起,光刻这种便捷、适用的硅片加工工夫的需求变得越来越大,于是贸易化的光刻机就有了它的商场。1961年,美国地球物理公司(GeophsicalCorporationofAmerica,简称GCA公司)的子公司大卫·曼恩公司(DavidMann)造出了全国上第一台商用光刻机——971型光刻机。固然从现正在的角度看,这台光刻机的机能存正在着许多缺乏,但正在当时,它仍旧能够很好地满意业界的须要。因而,囊括IBM德州仪器,以及飞利浦公司正在内的半导体财富修筑企业都争相采购这款光刻机,GCA也因而取得了强壮的贸易胜利。从此着手,光刻机自己也造成了一个独立的财富。

  回到ASML的故事。举动一家独立的公司,ASML设置于1984年。但正在它独立之前,其前身飞利浦公司的物理实习室(简称Natlab)却仍旧与光刻机打了数十年的交道。

  1962岁终,Natlab的一个调查团赴美国观光了贝尔实习室。观光功夫,贝尔的切磋职员向他们涌现了本身斥地的半导体芯片。这些芯片的精华做工让调查团的成员们感叹不已。调查团成员、Natlab的主任皮特·哈依曼(PietHaaijman)将一块芯片带回了欧洲,并让实习室的切磋职员好好对其举行切磋。一位刚入职不久的切磋员弗利茨·克洛斯特曼(FritsKlostermann)正在通过显微镜具体窥探了这枚芯片后,慨叹这个幼幼的元件几乎就像一只“闪动着彩虹般光后的奇特虫豸”。

  不久后,克洛斯特曼被调到了实习室的光化学切磋幼组。这个幼组的劳动是为飞利浦斥地光刻机。1963年5月,飞利浦从大卫·曼恩公司重金购入了一台1080型光刻机。举动工夫效劳职员,克洛斯特曼对这架呆板举行了拼装。通过这番实行,他具体清楚了这款前辈呆板的布局,也察觉了它的各式缺陷,这些都为来日后斥地光刻机奠定了底子。不久之后,他又举动采购职员访候了美国多家光刻机厂,对当时各样前辈光刻机的工夫特征举行了深刻的清楚。

  1966年,克洛斯特曼毕竟获准自行研发光刻机。1967年,他就做出了一台反复曝光光刻机的原型机,并将其正在Natlab的博览会上展出。缺憾的是,当时飞利浦的高层并不侧重这个厉重的研发劳绩。尔后,Natlab正在光刻机的研发上还得到了许多收效。但缺憾的是,因为公司的高层对光刻机项目并不侧重,导致这些切磋劳绩没能很好地转化为实际的产物,更无法转化为经济收益。

  上世纪80年代初,飞利浦自己的财政情况陷入窘境,出于降本增效的思索,就希望出售其光刻机等非中枢营业。开初,飞利浦的盘算是让某个大型的光刻机厂商来“接盘”,但几个相干至公司都没任何兴味。

  这个时间,一家名不见经传的公司“前辈半导体质料国际有限公司”(Ad-vancedSemiconductorMaterialsInter-nationalLtd.,简称ASM)映现了。ASM的创始人阿瑟·德尔·普拉多(ArthurdelPrado)出生于印尼,其父母都是荷兰人。“二战”时,他曾被合入纠合营。战役停止后,他回到荷兰,并练习了经济学和化学。随后,又赴美正在哈佛商学院举行了深造。从哈佛结业后,他游历了硅谷,眼见了半导体财富的昌盛繁荣,就回到荷兰举行创业。正在他传闻飞利浦蓄意出让光刻机营业后,曾多次找上门试图寻求互帮,然而,飞利浦又岂会看得起这家新创的幼公司?是以,这个互帮连续没有胜利。

  1983年,飞利浦的光刻机营业已几近山穷水尽。就正在这时,飞利浦科学与工业部(S&I)的工夫董事乔治·德·克鲁伊夫正在报纸上看到了一篇先容ASM的报道。他察觉,今朝的ASM早已不是当初主动上门来求互帮的那家幼作坊,仍旧成为了一家正在美国纳斯达克上市的至公司。于是,他快捷向公司高层呈文,显露能够考试和德尔·普拉多道一下。早已为财政窘境苦闷不已的飞利浦高层此时也顾不得谦和,速即就赞同了这个倡议。

  两边很疾决意了互帮计划:由飞利浦和德尔·普拉多诀别出资210万美元,设置一家新的公司,两边正在新公司各占50%的股份。这家新的合股公司被定名为“前辈半导体质料光刻公司”(AdvancedSemiconductorMaterialLithography),也即是其后鼎鼎学名的光刻巨头ASML。

  正在ASML设置之初,它的日子特殊欠好过。这时的半导体芯片江湖仍旧进入了一个新的时间。从上世纪70年代末着手,日本的半导体财富着手正在通产省的财富策略赞成之下急速繁荣,日立、三菱、富士通、东芝BOB半岛、日本电气等企业强势振兴,成为一切芯片行业内举足轻重的脚色。与此同时,尼康、佳能等企业则着手进入光刻机的坐褥队伍,并依靠质优价廉将老牌的美国光刻机厂商打得节节败退。

  与当时野蛮成长的日本光刻机厂商比拟,更生的ASML几乎缺乏一提。这家新公司的最初员工总共只要47人,都是从飞利浦的Natlab“优化”而来的,从来就没什么斗志。他们的办公室被铺排正在飞利浦大厦前的简陋木棚房内,可谓一番破败现象。

  奈何智力让这个新公司告终破局呢?德尔·普拉多以为,最厉重的是要找一个靠谱的CEO。那么,谁智力胜任,而且首肯出任这个地位呢?猎头向他推举了贾特·斯密特(GjaltSmit)。

  斯密特是一位充满激情、热爱自正在的人物。他是磁流体工程学硕士和天体物理博士,并曾正在欧洲航天局管事。关于飞利浦来说,他原本不算新人。由于正在1969年时,他曾参预这家公司,但不久后,就因受不了公司的政客态度而离任分开。此时,他的地位是美国电话电报公司驻荷兰的出卖担当人。正在过去的四年中,他的管事相当密切BOB半岛,帮帮公司得到了当局的巨额订单。当德尔·普拉多见到斯密特后,速即就被斯密特阐扬出的贸易直觉所吸引,以为他即是本身要找的人。倒是斯密特正在传闻飞利浦盘踞ASML的一半股份后,显露出了犹疑。他对德尔·普拉多说,他钦佩飞利浦的工夫,但正在贸易和营销上,那里是一团糟。不表,德尔·普拉多早已认准了斯密特即是对的人,他很疾说服飞利浦方面,让斯密彪炳任ASML的CEO,而斯密特正在一番辞让之后也最终领受了这个地位。

  若何智力让ASML急速奋起起来呢?斯密特以为,最厉重的冲破口是要尽疾找到客户。为了寻找客户,他于1984年5月底来到了美国加州圣马特奥参预西部半导体博览会(SEMICONWest),并拜望了多家芯片巨头。拜望的结果让他颓靡。简直全盘的芯片巨头都显露,他们正在抉择光刻机供应商时会特殊正在乎对方的出卖量。原由很单纯:关于利用者而言,光刻机的售后维修和珍摄是相当厉重的,而只要那些出卖量到达必定界限的光刻机厂商才有恐怕累赘起专业的售后团队——真相上,日本光刻机厂商之是以能够正在短时候内抢到强壮的商场份额,即是由于它们有极为精良的售后效劳。然而,这一起对仍处正在一贫如洗阶段的ASML来说,彰着是难以企及的。

  不表,通过和芯片巨头们的交道,他也察觉了一个厉重的音信:当时,芯片仍旧从大界限集成电途(LSI)繁荣到了超大界限集成电途(VLSI),芯片线微米以下。若是遵守摩尔定律,那么正在两年之后,芯片的修筑就央求或许告终0.7微米以下的成像,但囊括尼康、佳能、CGA正在内的全盘光刻机当时都还不行到达这一精度。

  斯密特相识到,若是ASML能够弯道超车,率先告终这种新光刻机的坐褥,就能够胜利正在商场上站住脚。遵循ASML工程师们的猜想,思要正在两年内斥地如许一个新光刻机,进入的本钱约莫须要1亿美元,正在他们看来,ASML的董事会彰着不会答应这么大的一笔进入。这时,斯密特的出卖体味就表现了效力。依靠着他的三寸不烂之舌,董事会竟相当不料地赞同了这个计划,而且让飞利浦和ASM先各拿出150万美元来举动第一笔资金。

  取得了董事会的赞成之后,斯密特速即启动了盘算。他预先将新产物的名字定为PAS2500,并盘算正在1986年的西部半导体博览会上涌现新的呆板。

  正在斯密特的指挥之下,底本一团散沙的ASML团队毕竟从新燃起了斗志。不表,这时间,商场的情景映现了变更。跟着经济的没落,芯片修筑商们正在进货光刻机时变得越来越认真。这让斯密特相识到,若是齐备把宝押正在两年后的PAS2500上,ASML恐怕早就倒闭了。为了提早翻开场面,他们务必先拿出一款过渡性的产物。

  正在ASML工程师通宵达旦的极力之下,过渡性子的PAS2400仅用了半年就坐褥了出来。有关于当时市道上主流光刻机实用的液压机台,PAS2400采用了Natlab的电动机台,从而能够让光刻流程中的调治加倍精确。

  1985年,斯密特带着PAS2400来到了西部半导体博览会举行涌现。正在展会上,PAS2400的阐扬特殊密切,一切展会功夫,连续平常运作。比拟之下BOB半岛,其他光刻机厂商演示的产物却往往映现各样题目。但即使如斯,并没有任何订单正在会上杀青。

  进入1986年,ASML的运气仿佛毕竟迎来了拐点。当年岁首,它毕竟迎来了本身的第一个客户——一家叫MMI的幼型芯片修筑商,它进货了几台PAS2400。如许,ASML毕竟告终了出卖上的零的冲破。

  当年5月,PAS2500也毕竟斥地完结。当斯密特带着PAS2500来到西部半导体博览会上时,这款新产物速即吸引了人们的留心。赛普拉斯(Cy-press)公司的CEO正在看过PAS2500后,对其机能显露特殊如意,并显露出了进货意向。不表,他的条目是央求ASML买少少本身公司的股票,以确保两边的益处绑定。如许,若是ASML的光刻机出了题目,它本身也会受到失掉。遵守公司的划定,这有些障碍。但关于变通的斯密特来说,这并不是题目,他指示公司的CFO很疾向NMB银行贷款处分了股份进货的资金。

  斯密特还思要更多。此前,AMD的创始人杰瑞·桑德斯(JerrySanders)曾怀恨美国产的光刻机质料太差,所以不得不进货日本的产物。斯密特清楚此过后,立马让人正在报纸上登告白向桑德斯“表达”说:“咱们听见了你的线年的西部半导体博览会上,斯密特又亲身带着原料找到了桑德斯,向其兜销PAS2500。桑德斯对PAS2500特殊感兴味,但正在终末一刻决意没有进货,原由是行业欠好,AMD也缺钱。

  戏剧性的是,正在一年之后,一起又峰回途转,AMD主动找到了ASML央求进货光刻机。原由很离奇:AMD收购了MMI,正在盘货其固定资产时,察觉MMI进货的其他品牌光刻机仍旧不行再利用,而那几台PAS2400却还是平常管事。就如许,ASML毕竟靠本身过硬的质料获得了AMD。

  不表,当ASML正正在向好的对象变化时,斯密特的职位却变得朝不虑夕。即使仍旧取得了一个人订单,但因为前期的巨量进入,ASML亏折急急,这让两家母公司不胜重负,就连德尔·普拉多也着手怀恨ASML的无终点烧钱。就正在这个时间,德国的LeyboldHeraeus公司向斯密特扔出了橄榄枝,于是他就很见机地从ASML主动离任了。

  从汗青的角度看,斯密特是ASML汗青上绕不表去的一个脚色。恰是他指挥ASML走过了最障碍的年光,也是他为ASML注入了尽心全力、用工夫上风来攻陷商场的公司心灵。

  1988年春季,ASML仍旧发不出工资,最终靠飞利浦进入的130万美元才委屈渡过了难合。更为倒霉的是,ASM也被ASML的无终点烧钱拖垮了。为了避免公司停业,ASM不得不从ASML撤资,其正在ASML中的股份与债务由飞利浦承受。

  就正在ASML简直走到山穷水尽的时间,一笔大单却不料地从天而降了:刚设置不久的台积电要进货17台新的PAS2500。直爽说,这笔订单多少有些合连性子。台积电设置时,飞利浦曾通过工夫入股的式样取得了其27.5%的股份,所以从某种意旨上讲,台积电和ASML有“兄弟”合连——不表,这种合连也有坏处,由于它正在很大水准上管束了ASML和台积电的交涉空间。1988岁终,当台积电的更坐褥线将近安排完毕时,不料境遇了一场大火,大量原先向ASML订购的PAS2500由此受损。因而,台积电发来了新呆板的订单。然而,许多正在这场火警中受损的呆板原本被阻挠水准特殊幼,所以ASML本质上是接纳了多半呆板,并捏造多了一大笔订单。因为有了这笔订单,ASML正在光刻机商场上的份额推广到了15%。

  但ASML先前倾泻了强壮血汗的PAS2500并没有如预期的那样受商场接待。到1989年年中,ASML的商场份额从新跌回了6%,正在合键光刻机厂商中位列倒数第二。而如许的原由,很大水准上是跟着芯片需求的推广BOB半岛,芯片修筑商须要加工的晶圆规格仍旧从6英寸推广到了8英寸,但囊括PAS2500正在内的全盘型号ASML光刻机还不行加工8英寸的晶圆。正在如许的情景下,要告终基本破局,就务必尽疾搞出新产物。

  这个坚苦的劳动落到了范登布林克——也即是本文着手提到的那位即将辞任的首席工夫官身上。举动新呆板的架构安排师,他被下令要正在三个月内拿出新呆板的计划。临危受命的他为了赶时候,舒服正在公司对面的管帐师事宜所找了一间幽静的房间,正在内部通宵达旦地举行管事,毕竟赶正在克日拿出了新呆板PAS5500的计划。

  和商场崇高行的全盘光刻机都分歧,PAS5500是一台模块化的光刻机,它的组件能够调换。因为光刻机的利用损耗特殊大,是以正在过去的团体架构下,芯片厂商往往会因一个零件的损坏而调换一整台光刻机,而PAS5500的安排彰着能够处分这个题目。

  固然PAS5500的安排很疾完结了,但第一台呆板的交货却是1991年的事了。正在这中央,ASML惩罚了豪爽供应链方面的题目。第一台呆板的买家是IBM,这时它仍旧是环球最大的半导体修筑商,ASML的出卖团队过程了很大的极力,才敲开了它的大门。真相阐明,当胜利地把好的产物卖给如许的买家时,ASML的进展就线年,ASML的营收仍旧以前一年的8100万美元上升到了1.19亿美元,固然因为前期研发的巨量进入,总体上还是是亏折,但幅度仍旧大大收窄。从1993年着手,ASML的收入就映现了飞速伸长,利润也着手转正。

  1995年,ASML胜利正在纳斯达克上市。到此为止,这家一度濒临停业的公司仍旧滋长为真正的光刻机巨头了。

  那么,ASML又是奈何最终超越尼康、佳能等日本的光刻巨头,最终加冕为光刻之王的呢?这原本多少有一点有时的因素。

  正在光刻机行业中,有一个厉重的“瑞利章程”(RayleighCriterion):光刻性能够惩罚的临界尺寸与利用光源的波长成正比,与数值孔径成反比。跟着芯片行业的繁荣,修筑商们须要惩罚的电途尺寸越来越幼,所以对光源的波长央求也就越来越高。

  从上世纪末着手,光源的波长连续被卡正在了193纳米。那么,若何智力取得更短波长的光源呢?当时,台积电的林本坚提出了一个计划,将晶圆的光刻胶上推广1毫米厚的水,从而将193纳米的光折射成134纳米的光。基于这一道理,他提出了浸入式光刻机的构想。因为台积电和ASML的“亲缘”合连,以及过去的持久互帮,是以正在这个构想提出后,呆板的修筑管事就天然交给了ASML。

  固然浸入式光刻机的构想特殊高明,但从工程角度看,它并不难完结。ASML很疾就遵守安排修筑出了134纳米波长光源的浸入式光刻机,并依靠这台兴办一举打败了尼康。即使简直同时,尼康过程研发,也冲破了193纳米的合口,斥地出了157纳米波长光源的光刻机,但商场是残酷的。囊括IBM、英特尔正在内的许多大客户扔掉尼康BOB半岛ASML的故事:从飞利浦弃儿到光刻之王,转投ASML。

  但ASML并没有满意。为了坚硬职位,它正在斥地浸入式光刻机的同时,就仍旧向极紫表光源,也即是EUV提倡了挑拨。正在这个阶段,ASML的运气可谓爆棚。当时,美国事最热心EUV研发的国度,以英特尔为代表的少少企业设置了一个EUV定约,许多与之相干的工夫和专利来自于这个定约。但因为美国和日本之间生意合连的恶化,是以日本企业被拂拭正在了这个定约除表。比拟之下,ASML固然也是表国公司,但思索到其人畜无害的形势,是以被接收到了这个定约当中。

  ASML正在这个定约中取得了许多有效的音信,并很疾搜求出了一种新的EUV出现门径:用激光轰击锡珠,让其化为等离子态,从而出现EUV。基于这个门径,ASML于2010年推出了第一台EUV样机。

  不表,将样机变为能够出卖的商品还须要许多进入,预期的进入恐怕到达每年10亿欧元,以ASML的财力并没有才气孤单完结这一起。为清楚决这个题目,它邀请了英特尔、三星和台积电入股合伙研发。毕竟,正在2013年,量产的EUV光刻机NEX:3300B面世了——也就正在这一年,温宁克和范登布林克接过了公司的指示权。尔后,正在这两位联席总裁的指示下,ASML无间高歌大进,于2017年推出了TWINSCANNXE:3400B,将光刻机的造程(即最幼的电途栅格间间隔)从7纳米推到了5纳米。而由此,ASML的光刻霸主职位也最终确定。

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